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Ausschreibung: Stipendium der Freien und Hansestadt Hamburg am ZI

Stipendium am Zentralinstitut für Kunstgeschichte zum 1. September 2018

 

 

 

Ein PDF der Ausschreibung finden Sie hier.

 

 

Ausschreibungsfrist: 2.–20. April 2018 (Gutachten können bis zum 27. April 2018 nachgereicht werden.)
Förderbeginn: ab 1. September 2018
Förderdauer: Ein Jahr mit Verlängerungsoption um ein zweites Jahr


Das nach dem Hamburgischen Gesetz zur Förderung des wissenschaftlichen und künstlerischen Nachwuchses (HmbNFG) finanzierte Stipendium dient der wissenschaftlichen Weiterbildung und der Durchführung von Forschungsvorhaben in Verbindung mit einer Mitarbeit am ZI in München.
Das Stipendium wird ausschließlich Kunsthistorikerinnen oder Kunsthistorikern gewährt, die an der Universität Hamburg promovieren oder promoviert worden sind.
Über die Anträge entscheidet die Vergabekommission der Universität in Abstimmung mit dem Zentralinstitut für Kunstgeschichte in München.


• Die Förderdauer beträgt mindestens ein 1 Jahr mit der Option auf Verlängerung um ein weiteres Jahr.
• Das Stipendium beträgt 1.000 Euro monatlich.
• Gefördert werden Forschungsvorhaben in Verbindung mit einer Mitarbeit am ZI in München.


Bitte senden Sie Ihre Bewerbung mit nachfolgenden Unterlagen in einer pdf-Datei an folgende Adresse: stipendium@verw.uni-hamburg.de

 

• Kurzes Bewerbungsschreiben

• Tabellarischer Lebenslauf mit aktuellen Kontaktdaten
• Darstellung des wissenschaftlichen Werdeganges
• Abschlusszeugnis/benoteter Nachweis über erbrachte Studien- und Prüfungsleitungen
• Arbeitsplan für das wissenschaftliche Vorhaben
• Gutachten des Betreuenden des Forschungsvorhabens/der Dissertation


Die Verantwortung für eine vollständige und fristgerechte Einreichung liegt bei den Antragstellenden. Verspätet eingegangene Bewerbungen können nicht berücksichtigt werden.


Information erhalten Sie bei:
Binne Sörine Krüger
Abteilung 4/Referat 43 Nachwuchsförderung
Mittelweg 177
20148 Hamburg
Tel: (040) 42838-4471
Email:

Weitere Informationen finden Sie hier.